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Raman Measurements and Stress Analysis in Gallium Ion Implanted Gallium Nitride Epitaxial Layers on Sapphire

机译:镓离子注入镓中的拉曼光谱和应力分析   蓝宝石上的氮化物外延层

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摘要

In this article, we estimate hydrostatic stress developed in gallium ionimplanted gallium nitride epitaxial layers using Raman measurements. We havecalculated deformation potential constants for $E_2$(high) mode in theseepi-layers. The presence of a polar phonon-plasmon coupling in these systemshas also been demonstrated. In as-implanted samples, with an increase inimplantation fluence, we have observed disorder-activated Raman scattering.
机译:在本文中,我们估计使用拉曼测量在植入镓离子的氮化镓外延层中产生的静水压力。我们已经计算了在seepi层中$ E_2 $(high)模式的变形势常数。还证明了在这些系统中极性声子-等离子体耦合的存在。在植入的样品中,随着植入通量的增加,我们观察到了无序激活的拉曼散射。

著录项

  • 作者单位
  • 年度 2006
  • 总页数
  • 原文格式 PDF
  • 正文语种 {"code":"en","name":"English","id":9}
  • 中图分类

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